半自動雙面真空曝光機(jī)

雙面曝光機(jī),北京正盛鴻成電子科技有限公司集技術(shù)研發(fā)、設(shè)備制造、產(chǎn)品加工、技術(shù)培訓(xùn)為一體的先進(jìn)工藝設(shè)備制造商,有曝光機(jī),PCB蝕刻...

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產(chǎn)品詳情

雙面曝光機(jī),北京正盛鴻成電子科技有限公司集技術(shù)研發(fā)、設(shè)備制造、產(chǎn)品加工、技術(shù)培訓(xùn)為一體的先進(jìn)工藝設(shè)備制造商,有曝光機(jī),PCB蝕刻設(shè)備,化學(xué)蝕刻設(shè)備,標(biāo)牌蝕刻機(jī),半自動雙面真空曝光機(jī)廠家

設(shè)備名稱：半自動雙面真空曝光機(jī)

Machine Name：Double Exposure Machine

技術(shù)參數(shù)

Specifications

設(shè)備型號

Model

GE-B650

曝光光源

Lamp

3KW碘鎵燈*2支

Gallium Iodine Lamp*2sets

光均勻度

Light Uniformity

≥90%

冷卻系統(tǒng)

Cooling System

強(qiáng)制風(fēng)冷

Air Cooling System

電源功率

Power

7.5KW/380V AC/50Hz/

曝光尺寸

Working Size

650*650mm

曝光精度

Exposing Accuracy

+/-0.05mm

外型尺寸

Machine Size

2000*1250*1650*mm

重量

Weight

300KG

設(shè)備說明：

此半自動雙面真空曝光機(jī) 為雙面曝光作業(yè)，雙燈獨(dú)立可調(diào)，是一款經(jīng)濟(jì)精度而設(shè)計(jì)的實(shí)用機(jī)型。特殊規(guī)格或特殊光源可定做。

Introduction:

This semi-automatic double-sided vacuum exposure machine is designed for double-sided exposure operation, and the double lamps can be adjusted independently. It is a practical model designed for economic precision. Special specifications or special light source can be customized.